半導體制造主要指在晶圓上制作邏輯電路的過程，涉及到工藝制程設備有擴散爐、PVD/CVD設備、光刻機、涂膠機、刻蝕機、離子注入設備、CMP設備等。真空系統作為這些工藝制程設備的關鍵子系統，由真空腔室、真空閥門（隔離閥、傳輸閥、調壓閥、插板閥等）、真空泵（低溫泵、干泵、分子泵等）及真空測量（薄膜真空規、壓力開關等）等核心零部件構成。由于芯片制造對環境和穩定性要求非常嚴苛，因此，這些核心零部件的設計和制造要求也非常高，這其中包含了材料的選擇、結構的設計、加工、裝配及表面處理的工藝等。
新能源行業，尤其是太陽能光伏板塊大部分的工藝需要應用到真空技術，在單晶硅和多晶硅的燒結爐中，利用真空設備可防止雜質污染，防止和其他氣體的反應，提高拉晶純度。在生產光伏模塊工藝時，需要利用真空技術實現高效而精準的工件搬運，特別是一些極其敏感的工件，必須輕柔抓取，避免在其表面留下痕跡或對其造成污染，包括硅片、電池、封裝線和成品模塊等工件。
各類分析儀器是醫療衛生、食品健康、科學研究、新能源、新材料等行業的重要工具，而很多的分析儀器都需要相應的潔凈真空環境條件，才能對特定的分析對象進行表面特性、物理特性、理化指標、元素構成、分子結構和密封性等方面的分析。比如常見的氦質譜檢漏儀（HLD）、掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）、比表面分析儀、各類質譜分析類儀器（ICP-MS、GC-MS、LC-MS、GD-MS等）以及一些光譜和能譜類分析儀器等。
